"光刻胶"相关数据
更新时间:2024-03-18光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的有机混合物,用于微细图形加工;光刻胶的基本组分:树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂;光刻胶根据其感光树脂的化学结构可分为:光聚合型:采用烯类单体,在光照下生成自由基,进一步引发单体聚合,最后生成聚合物,可制成负性胶;光分解型:采用含有叠氮醌类化合物材料,经光照后,发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可制成正性胶;光交联型:采用聚乙烯醇月桂酸酯作为光敏材料,在光的作用下,形成不溶性的网状结构聚合物,可制成负性胶。
- 光刻胶产业研究报告光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的有机混合物,用于微细图形加工;光刻胶的基本组分:树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂;光刻胶根据其感光树脂的化学结构可分为:光聚合型:采用烯类单体,在光照下生成自由基,进一步引发单体聚合,最后生成聚合物,可制成负性胶;光分解型:采用含有叠氮醌类化合物材料,经光照后,发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可制成正性胶;光交联型:采用聚乙烯醇月桂酸酯作为光敏材料,在光的作用下,形成不溶性的网状结构聚合物,可制成负性胶。2020年发布时间:2021-03-23
- 半导体材料系列报告(一):光刻胶篇-国产替代道阻且长,国内光刻胶企业砥砺前行光刻胶是半导体制造的核心材料,行业壁垒高;光刻胶是半导体制造工艺中光刻技术的核心材料,其品质直接决定集成电路的性能和良率,也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。光刻胶按照应用领域可以分为PCB、面板、半导体用光刻胶三大类,其中半导体光刻胶技术门烂最高,专利技术、原材料、设备验证、客户认证使得行业壁垒高筑。2022年发布时间:2022-03-17
- 国产光刻胶:破晓而生,踏浪前行2022年发布时间:2022-06-29
- 光刻胶行业深度报告:光刻核心材料亟需替代,国产光刻胶黄金发展机遇已至2022年发布时间:2022-06-15
- 化工行业:光刻胶,国产化正当时,龙头公司放量在即光刻胶是光电信息行业图形化方案核心材料,行业需求不断增长,国内增速显著高于海外,国外企业供应为主,半导体光刻胶持续增长,国产厂商持续发力, LCD光刻胶中国需求迎来快速增长。2011-2022年发布时间:2020-05-18
- 半导体产业链专题研究报告:光刻胶行业深度研究光刻胶投资逻辑地图:寡头垄断下的稳健发展二、详解光刻胶:芯片之基,国之砝码三、光刻胶的全球格局与行业龙头:日系寡头垄断四、国产光刻胶自主之路:芯芯之火,蓄势待燃中国大陆光刻胶产业链:国产化率较低从应用看国产光刻胶的三大发展路径。2021年发布时间:2021-07-13
- 化工行业专题报告:中美贸易摩擦下,光刻胶国产化有望加速光刻胶处于各行业产业链上游,具有举足轻重的地位。当前中美贸易摩擦持续,关方试图通过关税、禁运等途径对我国关键材料进行封锁、制约我国半导体及相关产业发展,因此,我国必须快速推进半导体产业及关键材料、设备的国产化率,避免对产业链造成重创。2019年发布时间:2020-06-01
- 化工行业光刻胶系列报告之二:产业链国产化大势所趋、任重道远树脂、感光剂、溶剂、添加剂四大组分,日本占据产业链支配地位,半导体、面板各10+亿美金市场,ArF、彩色光刻胶市占最高,半导体面板胶5-10年后有望孕育15亿元利润,追赶之路任重道远。重点关注购买光刻机,攻关ArF光刻胶的上海新阳、南大光电,g线/i线胶批量供应,代工三菱化学彩色光刻胶的老牌厂商晶瑞股份,收购LG化学彩色光刻胶业务,同时参股科特美的雅克科技;同时建议关注优质非上市公司北京科华、博砚电子的证券化进程。2020年发布时间:2020-09-16
- 半导体行业国产替代系列七:技术突破加速,光刻胶有望吹响替代主旋律2019年发布时间:2020-04-18
- 光刻胶行业深度研究:半导体材料皇冠上的明珠,迎来国产化机遇1.光刻胶:半导体材料皇冠上的明珠,高壁垒&高价值量光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠:全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律,缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%,行业技术壁垒和客户壁垒高,目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断,特别是ArF浸润式(28nm及以下)以及EUV等关键节点。2.供需不匹配,IC、FPD领域KrF、ArF等光刻胶亟待国产化光刻胶广泛应用于IC、FPD和PCB等下游领域,全球市场规模近百亿美元,在最高端的IC光刻胶领域,预计2020年全球市场规模有望超16亿美元。我国光刻胶产业在技术难度相对较低的PCB领域国产化率约50%,在技术难度较高的IC和FPD光刻胶领域国产化率约为5%,供需不匹配,亟需国产化。3.发展历史:起源美国,日本称霸,重视光刻胶+光刻机联动产业规律全球光刻胶产业经历了“美国起源-日本称霸-中国崛起”的转移历程:美国强大的经济、科技基础和半导体先发优势催生了光刻胶的起源,日本半导体产业转移、“产、学、官”体制和光刻机产业弯道超车等因素促使日本垄断全球高端光刻胶。在国家大力扶持半导体和光刻胶材料的基础上,国内光刻产业有望遵循光刻胶与光刻机协同发展的产业逻辑,实现光刻产业的发展。4.28nm等核心成熟制程突围:产业链抱团,核心材料一体化是关键,看好先发优势龙头国产光刻胶发展充满机遇。(1)下游LCD产业向大陆转移+集成电路成熟制程扩产显著,为国产光刻胶企业提供发展土壤与市场空间。(2)中美贸易摩擦、2020年疫情、近期KrF光刻胶供应受限,使供应链安全与全产业链自主可控成为重中之重,特别是在28nm及以上成熟制程应用领域;日本光刻胶产业集群的发展为国内光刻胶企业提供借鉴经验。(3)光刻胶具备高重要程度+成本不敏感属性,供应链存在天然高稳定性的特点,在加速进口替代的趋势下,我们看好核心材料一体化+具备先发优势的龙头公司。2021年发布时间:2021-06-15
- 2021年度光刻胶行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 半导体产业系列研究深度报告(一):光刻胶国产化,初见曙光,任重道远2019年发布时间:2019-06-11
- 2021年度光刻胶树脂行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 集成电路行业产业系列报告之三:中国半导体光刻胶迎时代新机遇半导体光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料,决定了半导体图形工艺的精密程度和良率。作为高精尖的半导体制造核心材料,由于技术壁垒和客户壁垒高,全球半导体光刻胶市场集中度高,市场被美日公司长期垄断。国内在半导体光刻胶领域自给率低,高端ArF光刻胶则完全依赖进口,中美贸易摩擦下,出于半导体产业安全的考虑,光刻胶自主可控意义凸显。以日本光刻胶发展史为鉴,我们认为在拥有全球最大电子产业和半导体市场的中国,持续扩大的本土半导体产能、国家政策和决心与集成电路大基金的支持都将为中国国产光刻胶提供前所未有的发展新机遇。2020年发布时间:2021-08-27
- 2021年度PCB光刻胶行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 2021年度LCD光刻胶行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 2021年度光刻胶配套试剂行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 电子行业深度报告:光刻胶:半导体产业核心卡脖子环节,国内厂商蓄势待发2022年发布时间:2022-12-29
- 2021年度光刻胶用光引发剂行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 电子设备行业专题研究:断供风险加剧,高端光刻胶迎国产化良机2022年发布时间:2023-03-15