"光刻"相关数据
更新时间:2024-03-18镝数聚为您整理了"光刻"的相关数据,搜报告,找数据,就来镝数聚,镝数聚帮您洞察行业动态,了解行业趋势。
- 光刻机深度:筚路蓝缕,寻光刻星火2023年发布时间:2024-03-18
- 光刻胶行业深度报告:光刻核心材料亟需替代,国产光刻胶黄金发展机遇已至2022年发布时间:2022-06-15
- 光刻胶产业研究报告光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的有机混合物,用于微细图形加工;光刻胶的基本组分:树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂;光刻胶根据其感光树脂的化学结构可分为:光聚合型:采用烯类单体,在光照下生成自由基,进一步引发单体聚合,最后生成聚合物,可制成负性胶;光分解型:采用含有叠氮醌类化合物材料,经光照后,发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可制成正性胶;光交联型:采用聚乙烯醇月桂酸酯作为光敏材料,在光的作用下,形成不溶性的网状结构聚合物,可制成负性胶。2020年发布时间:2021-03-23
- 半导体材料系列报告(一):光刻胶篇-国产替代道阻且长,国内光刻胶企业砥砺前行光刻胶是半导体制造的核心材料,行业壁垒高;光刻胶是半导体制造工艺中光刻技术的核心材料,其品质直接决定集成电路的性能和良率,也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。光刻胶按照应用领域可以分为PCB、面板、半导体用光刻胶三大类,其中半导体光刻胶技术门烂最高,专利技术、原材料、设备验证、客户认证使得行业壁垒高筑。2022年发布时间:2022-03-17
- 国产光刻胶:破晓而生,踏浪前行2022年发布时间:2022-06-29
- 半导体系列10:计算光刻技术管控升级,光刻工艺设备、材料、软件再迎国产化契机瓦森纳协议增加对EUV计算光刻软件的出口管制。根据瓦森纳主页,去年年底《瓦森纳安排》进行了新一轮修订,增加了计算光刻软件和12英寸硅片切割、研磨、抛光等方面的技术出口管制。新版《瓦森纳安排》是在原有版本基础上,增加了一条针对EUV光刻掩膜而设计的计算光刻软件内容,并保留对符合光源波长短于193nm,或MRF(最小可分辨特征尺寸)小于或等于45nm的光刻机的出口管制标准。2020年发布时间:2020-12-09
- 化工行业:光刻胶,国产化正当时,龙头公司放量在即光刻胶是光电信息行业图形化方案核心材料,行业需求不断增长,国内增速显著高于海外,国外企业供应为主,半导体光刻胶持续增长,国产厂商持续发力, LCD光刻胶中国需求迎来快速增长。2011-2022年发布时间:2020-05-18
- 光刻机行业专题报告:市场高度垄断,国产设备从利基市场切入光刻机技术壁垒高空间广阔。IC前道光刻机国产化率严重不足,但封装光刻机以及LED/MEMS/功率器件光刻机国内厂商话语权较高。2019-2020年发布时间:2020-07-21
- 2023年光刻机行业薪酬报告本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2023年发布时间:2023-06-03
- 半导体产业链专题研究报告:光刻胶行业深度研究光刻胶投资逻辑地图:寡头垄断下的稳健发展二、详解光刻胶:芯片之基,国之砝码三、光刻胶的全球格局与行业龙头:日系寡头垄断四、国产光刻胶自主之路:芯芯之火,蓄势待燃中国大陆光刻胶产业链:国产化率较低从应用看国产光刻胶的三大发展路径。2021年发布时间:2021-07-13
- 掩膜版-光刻工艺底片,国产替代步伐加快掩膜版是光刻工艺的“底片”,产业陆续向国内转移,掩膜版进口替代进程加快,随着下游电子产业陆续往中国转移,以及国家产业政策支持,国内掩膜版企业有望持续发力,建议关注清溢光电、菲利华、石英股份。2020年发布时间:2020-12-14
- 化工行业专题报告:中美贸易摩擦下,光刻胶国产化有望加速光刻胶处于各行业产业链上游,具有举足轻重的地位。当前中美贸易摩擦持续,关方试图通过关税、禁运等途径对我国关键材料进行封锁、制约我国半导体及相关产业发展,因此,我国必须快速推进半导体产业及关键材料、设备的国产化率,避免对产业链造成重创。2019年发布时间:2020-06-01
- 2022年光刻机行业薪酬报告本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2022年发布时间:2022-07-26
- 化工行业光刻胶系列报告之二:产业链国产化大势所趋、任重道远树脂、感光剂、溶剂、添加剂四大组分,日本占据产业链支配地位,半导体、面板各10+亿美金市场,ArF、彩色光刻胶市占最高,半导体面板胶5-10年后有望孕育15亿元利润,追赶之路任重道远。重点关注购买光刻机,攻关ArF光刻胶的上海新阳、南大光电,g线/i线胶批量供应,代工三菱化学彩色光刻胶的老牌厂商晶瑞股份,收购LG化学彩色光刻胶业务,同时参股科特美的雅克科技;同时建议关注优质非上市公司北京科华、博砚电子的证券化进程。2020年发布时间:2020-09-16
- 半导体行业国产替代系列七:技术突破加速,光刻胶有望吹响替代主旋律2019年发布时间:2020-04-18
- 光刻胶行业深度研究:半导体材料皇冠上的明珠,迎来国产化机遇1.光刻胶:半导体材料皇冠上的明珠,高壁垒&高价值量光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠:全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律,缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%,行业技术壁垒和客户壁垒高,目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断,特别是ArF浸润式(28nm及以下)以及EUV等关键节点。2.供需不匹配,IC、FPD领域KrF、ArF等光刻胶亟待国产化光刻胶广泛应用于IC、FPD和PCB等下游领域,全球市场规模近百亿美元,在最高端的IC光刻胶领域,预计2020年全球市场规模有望超16亿美元。我国光刻胶产业在技术难度相对较低的PCB领域国产化率约50%,在技术难度较高的IC和FPD光刻胶领域国产化率约为5%,供需不匹配,亟需国产化。3.发展历史:起源美国,日本称霸,重视光刻胶+光刻机联动产业规律全球光刻胶产业经历了“美国起源-日本称霸-中国崛起”的转移历程:美国强大的经济、科技基础和半导体先发优势催生了光刻胶的起源,日本半导体产业转移、“产、学、官”体制和光刻机产业弯道超车等因素促使日本垄断全球高端光刻胶。在国家大力扶持半导体和光刻胶材料的基础上,国内光刻产业有望遵循光刻胶与光刻机协同发展的产业逻辑,实现光刻产业的发展。4.28nm等核心成熟制程突围:产业链抱团,核心材料一体化是关键,看好先发优势龙头国产光刻胶发展充满机遇。(1)下游LCD产业向大陆转移+集成电路成熟制程扩产显著,为国产光刻胶企业提供发展土壤与市场空间。(2)中美贸易摩擦、2020年疫情、近期KrF光刻胶供应受限,使供应链安全与全产业链自主可控成为重中之重,特别是在28nm及以上成熟制程应用领域;日本光刻胶产业集群的发展为国内光刻胶企业提供借鉴经验。(3)光刻胶具备高重要程度+成本不敏感属性,供应链存在天然高稳定性的特点,在加速进口替代的趋势下,我们看好核心材料一体化+具备先发优势的龙头公司。2021年发布时间:2021-06-15
- 2021年薪酬报告系列之影视传媒光刻机行业薪酬报告薪酬调查本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-05-12
- 2021年度光刻胶行业人力资源效能分析报告(市场招聘用工)本次薪酬调研,薪酬网制定了周密的调查方案,凭借薪酬网便捷高效的在线调研系统,丰富的调查经验与专业的顾问团队;依托网站深厚的数据来源、庞大的客户群体,为企业提供高价值的人力资源深度研究报告。2021年发布时间:2022-04-25
- 全球半导体设备行业龙头专题(一):客户入股+战略并购+开放创新,阿斯麦如何成就光刻机领域霸主地位报告从客户入股+战略并购+开放创新,探究了阿斯麦如何成就光刻机领域霸主地位的原因。2019年发布时间:2020-05-01
- 光刻机行业报告:从0到1,星辰大海-中泰证券2023年发布时间:2023-06-01