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光刻机行业专题报告：市场高度垄断，国产设备从利基市场切入
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光刻机技术壁垒高空间广阔。IC前道光刻机国产化率严重不足，但封装光刻机以及LED/MEMS/功率器件光刻机国内厂商话语权较高。
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光刻机行业专题报告：市场高度垄断，国产设备从利基市场切入 本报告导读： 光刻机技术壁垒高空间广阔。IC前道光刻机国产化率严重不足，但封装光刻机以及LED/MEMS/功率器件光刻机国内厂商话语权较高。 摘要： 投资建议。受益于关键内资产线扩产拉动以及技术不断取得新突破，国产设备市场需求将不断增大。推荐设备龙头中微公司（688012.SH）及北方华创（002371.SZ）。同时上海微电子、芯源微（688037.SH）、盛美半导体（ACMR.O）、沈阳拓荆、华海清科以及北京屹唐也受益产业发展。 ●光刻机技术壁垒高且投资占比大，芯片尺寸的缩小以及性能的提升 依赖于光刻技术的发展。光刻设备从光源（从最初的g-Line， i-Line发展到极紫外EUV）、曝光方式（从接触式到步进式，从千式投影到浸没式投影）不断进行着改进。目前光刻机主要可以分为主流IC前道制造光刻机、IC后道先进封装光刻机、LED/MEMS/Power Devices制造用光刻机以及面板光刻机。 ●IC前道光刻机市场需求空间广阔，光刻机采购节奏反映2020年半导体设备资本支出可观。光刻机约占晶圆制造设备的27%，产线扩产拉动光刻机市场规模将不断增加。目前ASML-家独大，占据超过80%的市场份额，在KrF/ArF/EUV光刻机出货量份额则超过90%。上海微电子是国内光刻机领军者，其IC前道光刻机可以实现90nm制程，未来有望逐步实现技术突破。光刻机采购节奏是内资产线资本支出的关键信号。 【更多详情，请下载：光刻机行业专题报告：市场高度垄断，国产设备从利基市场切入】
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